化学气相沉积cvd一体机-捕鱼软件下载

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化学气相沉积cvd一体机

发布时间:2021-04-14  浏览次数:323

设备简介:

化学气相沉积(cvd)是指化学气体或在基质表面反应合成涂层或米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;

 

 

 

 

 

 

 技术参数: 


 

系统描述

产品型号

nbd-t1700-80it(g3z)

工作温度

≤1650

加热区尺寸

310mm

恒温区尺寸 220mm

升温速率

20/min

电气规格

ac 220v  4.5kw

控制系统



气体系统(可选购)

流量计类型

浮子流量计

质量流量计

管道示意图

 

 

进气接口数量

2、3、4(多路可选)

流量范围

20-200/60-600l/min(多量程可选)

50/100/200sccm(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15mpa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

nbd-1.5c

nbd-3c

nbd-4c

抽气速率

1l/s

3l/s

4l/s

进排气口尺寸

φ8mm宝塔接头

φ8mm宝塔接头

kf16/25

极限压力

1000pa

100pa

10pa

工作温度

5-40

电气规格

ac220v

分子泵高真空系统

(可选购)

分子泵系统型号

nbd-103(a)

nbd-103(b)

nbd-103(c)

抽气速率

110l/s

600l/s

700l/s

真空测量计

复合真空计

极限压力

10^-3pa

10^-4pa

10^-5pa

工作温度

5-40

电气规格

ac 220v

ac 220v

ac 380v

* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746

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