cvd系统hr1200-捕鱼软件下载

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cvd系统hr1200-110itd3f

发布时间:2018-11-27  浏览次数:2430

设备简介:

化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。




    

 

 

 

 

 



配置详情

nbd-101e嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式,非线性式样温度修正;

产品型号

nbd-hr1200-110it

工作温度

≤1100℃

加热区尺寸

200mm

升温速率

≤100℃/s

电气规格

ac 380v  15kw

气体系统(可选购)

流量计类型

浮子流量计

质量流量计

管道示意图

 

 

进气接口数量

2、3、4(多路可选)

流量范围

20-250/20-800ml/min(多量程可选)

50/100/200sccm(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15mpa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

nbd-1.5c

nbd-3c

nbd-4c

抽气速率

1l/s

3l/s

4l/s

进排气口尺寸

φ8mm宝塔接头

φ8mm宝塔接头

kf16/25

极限压力

1000pa

100pa

10pa

工作温度

5-40℃

电气规格

ac220v

高真空系统(可选购)

真空泵型号

nbd-103(a)

nbd-103(b)

nbd-103(c)

抽气速率

110l/s

600l/s

700l/s

真空测量计

复合真空计

极限压力

10^-3pa

10^-4pa

10^-5pa

工作温度

5-40℃

电气规格

ac 220v

ac 220v

ac 380v

* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746


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